汪波北京大學(xué)深圳研究生院信息工程學(xué)院助理教授
2020年，經(jīng)過(guò)17年的研發(fā)，EUV光刻機(jī)終于開(kāi)始用于5納米節(jié)點(diǎn)的工藝制造。然而，光刻精度即將達(dá)到極限，對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來(lái)，人們?cè)缫验_(kāi)始尋找其他解決路徑，這可以概括為“擴(kuò)展摩爾”和“超越摩爾”。[全文]
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