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科工力量:LPDDR5內(nèi)存韓美企業(yè)“三雄爭霸”,中國進展如何?
最后更新: 2020-02-19 10:31:29韓美企業(yè)“三雄爭霸”
與2012年的LPDDR3,2014年的LPDDR4以及2016年的LPDDR4x類似,LPDDR5在今年商用是一個正常的技術(shù)迭代。而這背后,在智能手機更高性能和容量需求情況下,是韓國的三星、SK海力士以及美國的美光三家巨頭正在全球LPDDR5這一最新技術(shù)領(lǐng)域激烈競爭。
三星在2018年就開始向LPDDR5標準過渡,開發(fā)出業(yè)界首款基于第二代10nm制造工藝(1Y nm)的8Gb LPDDR5,2019年7月再次宣布推出業(yè)內(nèi)首款12Gb LPDDR5,并基于8顆12Gb封裝量產(chǎn)12GB LPDDR5。此外,三星還將在今年開發(fā)16Gb LPDDR5。
2月12日凌晨,三星發(fā)布了新一代旗艦智能手機Galaxy S20系列,整體配置上有不小升級。其中,內(nèi)存方面全球首發(fā)LPDDR5,三星S20/S20+ 4G版本采用8GB LPDDR5 RAM,5G版本為12GB LPDDR5 RAM,S20 Ultra則獨享12/16GB LPDDR5 RAM。
與此同時,美光也在爭搶LPDDR5“全球首發(fā)”。2月6日,美光宣布已交付全球首款量產(chǎn)的LPDDR5,并透露小米10將首發(fā)應(yīng)用該芯片。但由于小米10推遲至2月13日線上發(fā)布,這一“全球首發(fā)”被三星提前一天截胡,而雷軍也稱小米10同時搭載三星和美光LPDDR5內(nèi)存。
美光LPDDR5采用的是1Y nm光刻技術(shù),將通過基于UFS的多芯片封裝(uMCP5)技術(shù)應(yīng)用于智能手機,且計劃今年晚些時候推出1Z nm級的產(chǎn)品。整體而言,美光計劃引入至少四種以上的10nm級制造工藝:1Z、1α、1β和1γ,從而使其10nm級制造工藝總數(shù)超過6種。
美光技術(shù)路線圖
目前,美光正將1Y nm工藝用于制造12Gb LPDDR4X、16Gb DDR4和12Gb LPDDR5等多種產(chǎn)品,下一代1Z nm將用于生產(chǎn)16Gb LPDDR5以及DDR5存儲器件。而在1Z nm節(jié)點后,美光計劃開始使用1αnm和1βnm制造技術(shù),并同時為1γnm技術(shù)的可行架構(gòu)尋找路徑。
韓國另一家公司SK海力士目前主要致力于提高1Znm工藝量產(chǎn)16Gb DDR4,且正在拓展到LPDDR5和HBM2E市場,計劃在2020年規(guī)模量產(chǎn)。在今年1月舉辦的CES 2020上,SK海力士展示的LPDDR5芯片頻率已達5500MHz,遠遠高于LPDDR4x-4667,而且功耗更低。
SK海力士在CES 2020上展示的LPDDR5存儲芯片
整體而言,根據(jù)三星、美光、SK海力士的DRAM技術(shù)發(fā)展路線來看,從2019下半年開始,三大廠商均已陸續(xù)進入1Znm DRAM技術(shù)階段。到2020年,隨著單晶圓(Die)容量已可達到16Gb,預(yù)計有望基于8顆16Gb芯片封裝量產(chǎn)16GB LPDDR5,進一步提高容量和性能。
在制造方面,為靈活管理和提高產(chǎn)能,三星正考慮從今年開始將12GB LPDDR5轉(zhuǎn)移到平澤工廠。而美光計劃對日本廣島工廠進行第二階段投資,即建設(shè)F棟制造工廠用于量產(chǎn)1Znm工藝之后的1α、1β技術(shù)。未來隨著各廠商產(chǎn)能逐漸放量,LPDDR5的商用步伐將會加快。
三星平澤工廠
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本文僅代表作者個人觀點。
- 責任編輯: 陳辰 
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