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米磊:國產(chǎn)光刻機(jī),如何避免閉門造車式創(chuàng)新?
【導(dǎo)讀】 光刻機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵工藝,而光刻機(jī)的生產(chǎn)技術(shù)由荷蘭ASML 、日本的尼康和佳能公司壟斷。在“缺芯”之勢蔓延、美國推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈回流的背景下,國產(chǎn)光刻機(jī)的真實(shí)水平是什么樣的?我國又應(yīng)如何發(fā)力實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的突破?本文試圖給出答案。
文章摘自《硬科技:大國競爭的前沿》一書,該書由中國人民大學(xué)出版社2021年10月出版。
【文/米磊】
光刻機(jī)的全球產(chǎn)業(yè)鏈格局
光刻技術(shù)是使微電子和納米電子器件在過去半個世紀(jì)中不斷微縮的基礎(chǔ)技術(shù)之一,光刻制造是晶圓制造最關(guān)鍵、最復(fù)雜和時間占比最高的環(huán)節(jié)。
目前,全球光刻機(jī)已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。據(jù)芯思想研究院(ChipInsights)數(shù)據(jù),2020年上述三家公司半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨413臺,較2019年的359臺增加54臺,漲幅為15%。其中,ASML公司出貨258臺,占比62.47%;尼康公司出貨31臺,占比7.51%;佳能公司出貨122臺,占比29.54%。
據(jù)估算,光刻機(jī)約占晶圓制造設(shè)備投資額的23%,再加上光刻工藝步驟中的光刻膠、光刻氣體、光罩(光掩膜版)、涂膠顯影設(shè)備等諸多配套設(shè)施和材料投資,整個光刻工藝占芯片成本的30%左右。
區(qū)別于晶圓制造其他工藝,光刻機(jī)組件及配套設(shè)施復(fù)雜,形成了自身的產(chǎn)業(yè)鏈。光刻機(jī)的制造研發(fā)并不是某一個企業(yè)能夠單獨(dú)完成的,光刻作為晶圓制造過程中最復(fù)雜、最重要的步驟,主要體現(xiàn)在光刻產(chǎn)業(yè)鏈高端復(fù)雜,需要很多頂尖的企業(yè)相互配合才可以完成。
ASML光刻機(jī)/資料圖
光刻產(chǎn)業(yè)鏈主要體現(xiàn)為兩點(diǎn):一是作為光刻核心設(shè)備的光刻機(jī)組件復(fù)雜,包括光源、鏡頭、激光器、工作臺等在內(nèi)的組件技術(shù)往往只被全球少數(shù)幾家公司掌握;二是與光刻機(jī)配套的光刻膠、光刻氣體、光罩(光掩膜版)等半導(dǎo)體材料和涂膠顯影設(shè)備同樣擁有較高的科技含量。
伴隨著工藝與設(shè)備的雙重突破,光刻設(shè)備成為推動摩爾定律的核心設(shè)備。光刻機(jī)已經(jīng)歷經(jīng)五代發(fā)展。隨著制程精度提升,光刻機(jī)復(fù)雜程度提高,ASML(阿斯麥爾)公司貫通光刻產(chǎn)業(yè)鏈,完全壟斷了10納米以下的工藝。
以ASML的EUV(極紫外)光刻機(jī)為例,7納米制程的EUV光刻機(jī)內(nèi)部共有10萬個零件,90%的關(guān)鍵設(shè)備來自外國而非荷蘭本國。ASML作為整機(jī)公司,實(shí)質(zhì)上只負(fù)責(zé)光刻機(jī)設(shè)計(jì)與各模塊集成,需要全而精的上游產(chǎn)業(yè)鏈作為堅(jiān)實(shí)的支撐。縱觀ASML的5 000多個供應(yīng)商,其中與產(chǎn)品相關(guān)的供應(yīng)商提供直接用于生產(chǎn)光刻系統(tǒng)的材料、設(shè)備、零部件和工具,此類別包括790家供應(yīng)商,采購和運(yùn)營支出占ASML總開支的66%。
在10納米節(jié)點(diǎn)以下,ASML穩(wěn)穩(wěn)占據(jù)100%的市場,佳能和尼康等同業(yè)競爭對手已無力追趕。如果芯片制造商想要生產(chǎn)10納米節(jié)點(diǎn)以下的芯片,必須得有ASML供應(yīng)的EUV光刻機(jī)及相應(yīng)的支持服務(wù)。
歐洲微電子研究中心(IMEC)宣布了3納米及以下光刻工藝的技術(shù)細(xì)節(jié),并表明ASML公司已經(jīng)明確了3納米、2納米、1.5納米、1納米甚至1納米以下的芯片制程技術(shù)路線圖。而日本、美國等國的許多半導(dǎo)體公司出于成本考慮,已經(jīng)停止了光刻工藝小型化的研究。IMEC和ASML的合作或?qū)⑦M(jìn)一步推動超精細(xì)芯片制程的研發(fā),延續(xù)“摩爾定律”。
美日推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈回流,應(yīng)對缺芯困境
受疫情和芯片供應(yīng)短缺影響,美國、日本希望推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈回流,以改變半導(dǎo)體制造“空心化”的局面,擬加大對半導(dǎo)體行業(yè)的投資,其中包括對半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行投資、吸引先進(jìn)半導(dǎo)體制造商前往建廠。同時,半導(dǎo)體廠商展開新一輪的并購以增強(qiáng)自身實(shí)力。作為先進(jìn)芯片制造中必不可缺的設(shè)備,光刻機(jī)的需求勢必保持長期的增長。
2020年,受新冠肺炎疫情影響,美國國防部認(rèn)識到國防產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈的脆弱,開始制定一項(xiàng)“微電子回流戰(zhàn)略”,旨在通過公私合作等方式,將微電子制造、組裝和測試產(chǎn)業(yè)從亞洲轉(zhuǎn)移至美國,以解除對微電子產(chǎn)品供應(yīng)鏈安全的擔(dān)憂。
2020年5月,美國白宮與英特爾、臺積電進(jìn)行談判,成功說服這兩家公司在美國本土新建芯片制造廠。
今年9月,美國商務(wù)部召開半導(dǎo)體高峰會,以提高芯片“供應(yīng)鏈透明度”為由,要求臺積電、三星等半導(dǎo)體企業(yè)在45天內(nèi)交出被視為商業(yè)機(jī)密的庫存量、訂單、銷售紀(jì)錄等數(shù)據(jù)。
2021年2月,美國總統(tǒng)拜登簽署一項(xiàng)行政命令,要求美國政府對半導(dǎo)體芯片、電動汽車大容量電池、稀土礦產(chǎn)和藥品四種關(guān)鍵產(chǎn)品的供應(yīng)鏈進(jìn)行為期100天的審查。
2021年4月,美國拜登政府公布了一項(xiàng)2萬億美元的基礎(chǔ)設(shè)施投資計(jì)劃,涉及芯片供應(yīng)鏈的投資規(guī)模達(dá)到500億美元。
2021年4月,美國白宮召開線上峰會以商討如何應(yīng)對芯片短缺的困境,與會者包括三星、英特爾、臺積電和谷歌等公司。拜登稱,加強(qiáng)美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和供應(yīng)鏈韌性是美國兩黨的共識,已有23名參議員和42名眾議員來信支持美國的《為芯片生產(chǎn)創(chuàng)造有益的激勵措施法案》(CHIPS),以應(yīng)對中國等其他國家的快速發(fā)展,消除美國在研發(fā)和制造方面的局限性。
芯片短缺的現(xiàn)狀雖與美國供應(yīng)鏈對亞洲的依賴并不直接相關(guān),卻掀起了一輪有關(guān)芯片制造回流美國的廣泛討論,并贏得美國國會內(nèi)部對于深度投資美國本土半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的有力支持。
2020年4月,日本政府召開經(jīng)濟(jì)增長戰(zhàn)略會議,針對全球半導(dǎo)體供應(yīng)不足問題,討論國內(nèi)投資支持措施,以確保國內(nèi)穩(wěn)定供應(yīng)。日本擁有全球最多的半導(dǎo)體工廠,但生產(chǎn)的一大半都是用途廣泛的產(chǎn)品,沒有附加價(jià)值高的尖端半導(dǎo)體制造能力。政府對逾六成國內(nèi)半導(dǎo)體需求依賴進(jìn)口的現(xiàn)狀表示擔(dān)憂。
日本官房長官加藤勝信表示,“將促進(jìn)研發(fā)和投資,力圖構(gòu)筑切實(shí)的供應(yīng)體制”。4月,美日兩國首腦召開會議,確認(rèn)建立分散型供應(yīng)鏈的重要性,討論了構(gòu)建生產(chǎn)基地不偏重于地緣政治風(fēng)險(xiǎn)高的中國臺灣和與美國對立加深的中國大陸等特定地區(qū)的體制。
- 原標(biāo)題:美日推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈回流,國產(chǎn)光刻機(jī)和半導(dǎo)體的未來 本文僅代表作者個人觀點(diǎn)。
- 責(zé)任編輯: 吳立群 
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